描述
- 呂舍爾 XPose 230 UV + PHS 和 TiFF 射擊器，包括 膠印版和水性可水洗柔版印刷版的計算機硬體
- 用於傳統膠印版和重氮薄膜以及 Mac Dermid 塗層板的 405 nm UV 二極管（Gallus、Kocher + Beck 和 Stork 的旋轉篩網也可以毫無問題地使用 405 nm 紫外線曝光）
- 375 nm 鐳射二極管用於直接曝光可水洗柔版印刷版或無 LAMS 層的傳統凸版印刷板
- 32 個 375 nm 的 lase 二極管，用於水性可水洗柔版印刷版
- 16 個 405 nm 鐳射二極體
- 用於 Bacher 2000 自動製版的在線沖床 780 mm 和 425 m
- 印版計數器：58，736 張印版
- 激光時間：4，030小時
- 滑印革命：30894729
- Lüscher 印版處理系統 PHS 230，帶五個印版庫（也可根據要求省略）
- 運輸台 Glunz & Jensen IP 66
- 愛克發Elantrix DX 85膠印版開發機，帶兩個刷輥，建於2017年
